.../Структура/Лаборатория Лазерных Измерений

Экспериментально, с помощью сканирующего микроскопа ближнего поля с полым пирамидальным кантилевером с размером основания 20х20 мкм и высотой 13 мкм, с углом при вершине 70 градусов и с отверстием на вершине 100 нм, состоящем из внутреннего слоя из плавленого кварца толщиной 500 нм и внешнего слоя из алюминия толщиной 100 нм , измерено распределение интенсивности в фокусе линейно-поляризованного лазерного пучка (длина фокуса равна длине волны лазерного света  - 532 нм), сфокусированного бинарной зонной микропластинкой с диаметром 14 мкм и крайней зоной в полдлины волны (числовая апертура 0,996). Бинарная линза была синтезирована по технологии электронной литографии в резисте, нанесенном на оптическую подложку из плавленого кварца. Фокусное пятно имело диаметр по полуспаду интенсивности 0,43±0,02 длины волны. Это меньше дифракционного предела, составляющего 0,51 длины волны. Экспериментально доказано, что используемая разновидность ближнепольного микроскопа с указанным кантилевером измеряет только поперечную составляющую напряженности электрического поля  электромагнитной волны в фокусе микролинзы. Острая фокусировка лазерного света с помощью элементов микрооптики применяется в конфокальной микроскопии для повышения  разрешения; в микроманипулировании для оптического захвата микро- и нанообъектов; в оптических телекоммуникациях для эффективного сопряжения двух волокон или волноводов; при записи информации на оптический диск.

Рис.1 СЭМ картина части бинарной зонной пластинки  f = λ= 633 нм  (NA=0,996) (а) и зарегистрированное сканирующим микроскопом ближнего поля фокусное пятно (б), сформированное линейно-поляризованным гауссовым пучком.

Библиография:
Adv. Opt. Technol., v. 2012, ID 647165-9 (2012).
Adv. Opt. Technol., v.2012, ID 974281-11 (2012).
J. Atom. Mol. Opt. Phys., v. 2012, ID 123872-3 (2012).
Optics, v.1, no.1, 1-10 (2012)
Applied Optics, v.52, no.3, p.330-339 (2013).