Вакуумно-технологическая установка плазмохимического и ионно-химического травления Caroline PE15 предназначена для мелко- и среднесерийного производства и проведения исследовательских работ в области плазмохимического, ионно-химического и ионного травления подложек диаметром до 200 мм. При этом обеспечиваются следующие возможности:
1. Травление кремнийсодержащих слоев (оксиды, нитриды, поликремний, монокристаллический кремний).
2. Травление арсенида галлия, нитрида галлия и других сложных полупроводников.
3. Травление алюминия, меди, золота, серебра, платины и многих других материалов ионным распылением.
Технические характеристики:
Количество подложек, обрабатываемых за 1 цикл (шт ) |
1шт. Ø200 мм. |
Автономная замкнутая система водоснабжения с температурой выше точки росы при любых режимах эксплуатации, и охлаждением от оборотной воды предприятия |
|
Предельное остаточное давление в рабочей камере, Па |
8х10-4 |
Время полного обезгаживания, мин. |
60 |
Давление в шлюзе загрузки-выгрузки, Па |
2 |
Время откачки шлюза до Па, сек. |
60 |
Время перезагрузки пластин из шлюза в рабочую камеру, сек. |
120 |
Количество каналов рабочих газов до 4-х каналов агрессивных газов (Cl2 SiCl4 и т.д.), шт. |
2÷8 |
ВЧ мощность, подаваемая на антенну генератора плазмы |
100÷900 Вт, |
Частота напряжения смещения |
100 кГц, или |
Мощность, подаваемая на столик, Вт |
до 900 |
Равномерность на Ø 150 мм. при травлении SiO2, % |
±1 |
Диапазон рабочих давлений, Па |
5х10-2±5 |
Габаритные размеры агрегата технологического (ширина × глубина × высота) с открытой крышкой, мм. |
1300х850х1825 |
Масса со стойкой питания и управления, кг. |
до 1600 |
