Система высоковакуумного магнетронного напыления предназначена для получения тонких металлических магнитных пленок и структур. После проведенной реконструкции она содержит четыре магнетрона с мишенями. Откачка напылительной камеры осуществляется диффузионным масляным насосом со скоростью 1000 литров в секунду. Откачка камеры загрузки осуществляется пластинчато-роторным масляным насосом со скоростью 18 литров в секунду.
В комплект установки входят три генератора постоянного тока мощностью по 500 Вт и генератор высокой частоты мощностью 1 кВт. Предельный вакуум системы 5x10-7 мм. рт. столба.
Нагрев подложек с вращением 9,8 об/мин обеспечивается кварцевыми галогеновыми лампами. Рабочим газом является высокочистый аргон.
Вакуумное нанесение металлических плёнок, при создании приборов микро- и нано-электроники, играет важную роль. Получаемые плёнки можно использовать, как металлизацию для контактов, так и маскирующее покрытие. Металлические покрытия, получаемые магнетронным распылением, как правило, чистые и с хорошими электрическими свойствами.
Качество получаемых методом магнетронного распыления металлических пленок зависит от многих параметров, таких как: чистота материала мишени, качество подготовки поверхности подложки, условия технологического процесса (степень глубины вакуума, чистота используемого инертного газа).