/ЗАВЕРШЁННЫЕ РАЗРАБОТКИ

Разработчик: ОКБ "МИКРОТЕХНОЛОГИЯ"

РАЗРАБОТАННЫЕ И ИЗГОТОВЛЕННЫЕ В ИСОИ РАН ДОЭ НА ОСНОВЕ НЕПРЕРЫВНОГО И БИНАРНОГО МИКРОРЕЛЬЕФА

Тип ДОЭ
Длина волны,
мкм
Апертура,
мм
Фокусное расстояние,
мм
Размеры фокальной линии
Тип микрорельефа
Метод изготовления
“Отрезок”*
10,6
50
1200
20 мм
непрерыв.
ЖФПК
“Кольцо”*
10,6
50
800
20 мм
непрерыв.
БХЖ
“Кольцо”***
1,06
35
150
3х1
бинарный
ПХТ
“Две точки”***
1,06
35
150
0х1,5 мм
бинарный
ПХТ
Площадка ***
1,06
35х35
150
1х3 мм
бинарный
ПХТ
Буква “А”**
1,06
5
100
5 мм
бинарный
ФЛ
Буква “p”*
10,6
18
250
10х10
непрерыв.
БХЖ
Линзовый растр **
0,55
5х5, 100х100
3
-
бинарный
ПХТ
Рассеиватель (дифракцион. решетка)*****
0,55
1000 лин./мм
-
-
бинарный
ЭЛЛ, ПХТ

Материал подложки:
* - медь
** - стекло
*** - плавленый кварц
**** - кремний
***** - полиметилметакрилат
****** - фоторезист c алюминиевой/серебряной пленкой

ЖФПК – жидкие фотополимеризующиеся композиции
БХЖ - бихромированный желатин
ПХТ - плазмохимическое травление
ЭЛЛ - электронно-лучевая литография
РНФ - равномерное наращивание фоторезиста
РТМ - равномерное травление меди ФЛ - фотолитография