Разработчик: ОКБ "МИКРОТЕХНОЛОГИЯ"
РАЗРАБОТАННЫЕ И ИЗГОТОВЛЕННЫЕ В ИСОИ РАН ДОЭ НА ОСНОВЕ НЕПРЕРЫВНОГО И БИНАРНОГО МИКРОРЕЛЬЕФА
Тип ДОЭ
|
Длина
волны,
мкм |
Апертура,
мм |
Фокусное
расстояние,
мм |
Размеры
фокальной линии
|
Тип микрорельефа
|
Метод
изготовления
|
“Отрезок”* |
10,6
|
50
|
1200
|
20 мм
|
непрерыв.
|
ЖФПК
|
“Кольцо”* |
10,6
|
50
|
800
|
20 мм
|
непрерыв.
|
БХЖ
|
“Кольцо”*** |
1,06
|
35
|
150
|
3х1
|
бинарный
|
ПХТ
|
“Две точки”*** |
1,06
|
35
|
150
|
0х1,5 мм
|
бинарный
|
ПХТ
|
Площадка *** |
1,06
|
35х35
|
150
|
1х3 мм
|
бинарный
|
ПХТ
|
Буква “А”** |
1,06
|
5
|
100
|
5 мм
|
бинарный
|
ФЛ
|
Буква “p”* |
10,6
|
18
|
250
|
10х10
|
непрерыв.
|
БХЖ
|
Линзовый растр ** |
0,55
|
5х5, 100х100
|
3
|
-
|
бинарный
|
ПХТ
|
Рассеиватель (дифракцион. решетка)***** |
0,55
|
1000 лин./мм
|
-
|
-
|
бинарный
|
ЭЛЛ, ПХТ
|
Материал подложки:
* - медь
** - стекло
*** - плавленый кварц
**** - кремний
***** - полиметилметакрилат
****** - фоторезист c алюминиевой/серебряной пленкой
ЖФПК – жидкие фотополимеризующиеся композиции
БХЖ - бихромированный желатин
ПХТ - плазмохимическое травление
ЭЛЛ - электронно-лучевая литография
РНФ - равномерное наращивание фоторезиста
РТМ - равномерное травление меди ФЛ - фотолитография