Разработчик: ОКБ "МИКРОТЕХНОЛОГИЯ"
|
Вид области
фокусировки |
Длина
волны, мкм
|
Апертура,
мм |
Фокусное
расстояние,
мм |
Размеры
фокальной линии
|
Число
уровней квантования фазы
|
Метод
изготовления
|
|
“Отрезок”*
|
10,6
|
16
|
250
|
6 мм
|
5
|
ФЛ
|
|
“Отрезок”*
|
10,6
|
40
|
400
|
10 мм
|
8
|
ФЛ
|
|
“Отрезок”*****
|
10,6
|
40
|
500
|
10 мм
|
8
|
ПХТ
|
|
“Точка”*
|
10,6
|
10
|
250
|
-
|
8
|
РТМ
|
|
“Отрезок”**
|
10,6
|
6
|
80
|
5 мм
|
5
|
ФЛ
|
|
“Кольцо”******
|
10,6
|
12
|
400
|
12 мм
|
8
|
РНФ
|
|
“Кольцо”**
|
10,6
|
20
|
100
|
4 мм
|
8
|
ФЛ
|
|
“Две точки”**
|
10,6
|
20
|
100
|
3 мм
|
8
|
ФЛ
|
Материал подложки:
* - медь
** - стекло
*** - плавленый кварц
**** - кремний
***** - полиметилметакрилат
****** - фоторезист c алюминиевой/серебряной пленкойПХТ - плазмохимическое травление
РНФ - равномерное наращивание фоторезиста
РТМ - равномерное травление меди
ФЛ - фотолитография