.../МОНОГРАФИИ/ФОРМИРОВАНИЕ ОПТИЧЕСКОГО МИКРОРЕЛЬЕФА ВО ВНЕЭЛЕКТРОДНОЙ ПЛАЗМЕ ВЫСОКОВОЛЬТНОГО ГАЗОВОГО РАЗРЯДА

Полное оглавление

	Предисловие	6
	Введение	7
Глава 1	Механизмы формирования направленных потоков низкотемпературной плазмы высоковольтным газовым разрядом вне межэлектродного пространства	13
1.1	Анализ приборов, формирующих низкотемпературную плазму высоковольтного газового разряда	13
1.2	Исследование особенностей низкотемпературной внеэлектродной плазмы высоковольтного газового разряда	18
1.3	Модификация конструкции высоковольтного газоразрядного прибора	23
1.4	Новые приборы, формирующие направленные потоки низкотемпературной внеэлектродной плазмы высоковольтного газового разряда	32
1.5	Заключение	38
Глава 2	Методы экспресс-контроля чистоты поверхности	39
2.1	Анализ методов экспресс-контроля чистоты поверхности	40
2.2	Модификация трибометрического прибора для измерения чистоты поверхности	46
2.3	Исследование режимов работы и параметров трибометрического прибора  контроля чистоты поверхности	55
2.4	Определение критерия оценки  технологически чистой поверхности	61
2.5	Исследование процесса трибометрического воздействия  подложки-зонда на структуру контролируемой поверхности	64
2.6	Методика контроля чистоты поверхности  трибометрическим методом	66
2.7	Заключение	67
Глава 3	Повышение степени чистоты поверхности в низкотемпературной внеэлектродной плазме высоковольтного газового разряда	68
3.1	Анализ методов очистки поверхности	69
3.2	Исследование механизмов формирования свойств поверхности	73
3.3	Анализ структуры молекулы  органического загрязнения	76
3.4	Методика приготовления исходных образцов с заданной степенью загрязнения	79
3.5	Анализ частиц плазмы, взаимодействующих с поверхностью обрабатываемого материала	83
3.6	Исследование механизма очистки поверхности в направленных потоках низкотемпературной неэлектродной плазмы высоковольтного газового разряда	87
3.7	Экспериментальное исследование зависимости степени чистоты поверхности от физических параметров плазмы	92
3.8	Методика финишной очистки поверхности во внеэлектродной плазме высоковольтного газового разряда	97
3.9	Заключение	98
Глава 4	Адгезия в структурах металл-диэлектрик после бомбардировки их поверхности ионно-электронным потоком	99
4.1	Механизм увеличения адгезии	99
4.2	Расчет ДОЭ, формирующих радиально-симметричные распределения интенсивности	104
4.3	Экспериментальное исследование влияния  на адгезию параметров бомбардировки  ионно-электронным потоком	110
4.4	Методика формирования маскирующих слоев повышенной адгезионной прочности	115
4.5	Заключение	116
Глава 5	Травление оптического микрорельефа во внеэлектродной плазме высоковольтного газового разряда	117
5.1	Методика подготовки образцов для проведения эксперимента по травлению оптического микрорельефа во внеэлектродной плазме высоковольтного газового разряда	118
5.2	Исследование механизмов плазмохимического и ионно-химического травления поверхности	120
5.3	Модель травления. Основные выражения. Алгоритм и программное обеспечение для расчета скорости травления	124
5.4	Экспериментальное исследование зависимости скорости травления от физических параметров плазмы	135
5.5	Исследование температурной зависимости скорости травления	144
5.6	Эффект объемной модификации полимеров в направленном потоке низкотемпературной плазмы	154
5.7	Анализ качества травления материалов  микроэлектроники и дифракционной оптики	161
5.8	Методика формирования оптического микрорельефа методом плазмохимического травления во внеэлектродной плазме высоковольтного газового разряда	168
5.9	Методика формирования оптического микрорельефа методом ионно-химического травления во внеэлектродной плазме высоковольтного газового разряда	169
5.10	Заключение	169
Глава 6	Формирование каталитической маски микрорельефа оптических элементов при облучении структуры алюминий-кремний частицами высоковольтного газового разряда	170
6.1	Исследование эффекта увлечения атомов кремния «вакансиями», возникающими в расплаве алюминия при облучении его поверхности частицами высоковольтного газового  разряда	171
6.2	Аналитическое описание процесса растворения кремния в расплаве алюминия	172
6.3	Анализ экспериментальных данных	183
6.4	Методика формирования оптического микрорельефа на основе применения каталитической маски, формируемой во внеэлектродной плазме высоковольтного газового разряда	184
6.5	Заключение	186
	Заключение	187
	Список литературы	189
Приложение.	Статистическая обработка результатов эксперимента	208