Вакуумная напылительная установка Caroline D12A рис.5.1.1 предназначена для мелко- и среднесерийного производства и проведения исследовательских работ в области осаждения тонких пленок методом магнетронного и термического распыления.
В качестве подложек могут быть использованы различные материалы: ситал, поликор, керамика, кремний и т.д.
Установка обеспечивает напыление пленок Al, Cu, Ti, Cr, Siи другим металлов и полупроводников, а также их оксидов и нитридов (при соответствующем выборе технологических режимов.
Технические характеристики:
Количество подложек, обрабатываемых за 1 цикл (шт ) |
12шт. Ø100 мм. |
Стартовое давление в рабочей камере, Па |
10-3 |
Расход подаваемых в камеру рабочих газов по одному каналу (л/час) |
0÷9 |
Количество подаваемых (неагрессивных) газов до (шт.) |
3 |
Количество подаваемых (неагрессивных) газов до (шт.) |
1 |
Количество термических испарителей до (шт.) |
2 |
Количество магнетронов в установке (шт.) |
1÷4 |
Тип магнетронов для напыления пленок |
Импульсный |
Рабочий ток магнетронов, регулируемый (А) |
0,5÷8 |
Рабочее напряжение магнетронов (В) |
300÷650 |
Материал и размер мишеней: металлы, сплавы, PC, кремний (могут использоваться составные мишени не прямого охлаждения), мм |
Ø 100×4÷12 |
Рабочее давление в вакуумной камере, Па |
0,7÷0,3 |
Диапазон контроля сопротивления свидетеля (кОм) |
0,2÷20 |
Погрешность измерения сопротивления (%) |
±3 |
Рекомендуемая температура нагрева подложек, °С |
50÷250 |
Нестабильность температуры подложек (%) |
±5 |
Предельное остаточное давление в рабочей камере, (Па) |
2x10-4 |
Время подготовки установки к работе с учетом "разгона" крионасоса не более (мин ) |
110 |
Масса со стойкой питания и управления, кг. |
До 1850 |
